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ISSN: 2333-9721
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-  2010 

溅射电流对磁控溅射CrNx薄膜结构与性能的影响

Keywords: 氮化铬薄膜,磁控溅射,溅射电流,微结构,硬度

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Abstract:

采用非平衡磁控溅射技术在不锈钢以及单晶硅基体上制备了CrNx 薄膜,并利用X 射线衍射仪 (XRD) 、场发射扫描电镜 (FESEM) 、能量色散X 射线能谱仪(EDS) 和纳米压痕仪对薄膜的结构和性能进行了表征。结果表明,随着溅射电流的增大,薄膜中N/ Cr 比值减小,相组成由CrN (200) 向Cr2N (111) 转变;晶粒尺寸减小,柱状结构消失,结构变得致密;由于在大溅射电流下,易于形成Cr2N 高硬度相,而且形成的薄膜晶粒细小、结构致密,所以硬度值随溅射电流单调升高,在21 A 时达到最高,为21 GPa

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