新型含三氰基呋喃受体的非线性光学材料合成及性能研究
Keywords: 非线性光学材料,三氰基呋喃,热性能,DFT
Abstract:
合成了二种含三氰基呋喃受体的新型非线性光学（NLO）生色团分子。利用元素分析、1H NMR和FT-IR对这些分子的结构进行了表征。TGA测试结果表明这两种材料具有较好的热稳定性，其热分解温度（Td）最高达311?C。UV-Vis光谱表明材料具有较好的透光性。用DFT-B3LYP方法在6-31G基组下对分子的结构进行了优化并计算出其静态二阶极化率?值最高达5.9×10-28esu
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