%0 Journal Article
%T 新型含三氰基呋喃受体的非线性光学材料合成及性能研究
%A 唐先忠
%A 唐翔
%A 王洋
%A 赵波
%J 功能材料
%D 2010
%X 合成了二种含三氰基呋喃受体的新型非线性光学（NLO）生色团分子。利用元素分析、1H NMR和FT-IR对这些分子的结构进行了表征。TGA测试结果表明这两种材料具有较好的热稳定性，其热分解温度（Td）最高达311?C。UV-Vis光谱表明材料具有较好的透光性。用DFT-B3LYP方法在6-31G基组下对分子的结构进行了优化并计算出其静态二阶极化率?值最高达5.9×10-28esu
%K 非线性光学材料
%K 三氰基呋喃
%K 热性能
%K DFT
%U http://www.gncl.cn/CN/abstract/abstract10663.shtml