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ISSN: 2333-9721
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- 2017

高温化学气相沉积法制备致密碳化钽涂层

DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2017.06.033

刘金鑫,史月增,张丽,徐永宽,王利杰,齐海涛

Keywords: 高温CVD,TaC涂层,工艺条件

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Abstract:

采用高温化学气相沉积法(CVD)在高纯高密石墨基片的表面沉积了碳化钽(TaC)涂层。通过研究气化温度、气体流量及沉积温度对TaC涂层表面质量的影响,确定了高温CVD法制备TaC涂层的工艺参数,最终获得高致密度的TaC涂层

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