%0 Journal Article
%T 高温化学气相沉积法制备致密碳化钽涂层
%A 刘金鑫
%A 史月增
%A 张丽
%A 徐永宽
%A 王利杰
%A 齐海涛
%J 功能材料
%D 2017
%R 10.3969/j.issn.1001-9731.2017.06.033
%X 采用高温化学气相沉积法(CVD)在高纯高密石墨基片的表面沉积了碳化钽(TaC)涂层。通过研究气化温度、气体流量及沉积温度对TaC涂层表面质量的影响,确定了高温CVD法制备TaC涂层的工艺参数,最终获得高致密度的TaC涂层
%K 高温CVD
%K TaC涂层
%K 工艺条件
%U http://www.gncl.cn/CN/abstract/abstract17286.shtml