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- 2016
Ta缓冲层厚度对FeMn/NiFe体系交换偏置的影响DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2016.07.012 Keywords: 交换偏置, 多层膜, 织构, 界面粗糙度, 晶粒尺寸 Abstract: 用X射线衍射仪、原子力显微镜和磁强计研究了Ta缓冲层厚度变化时,Ta/FeMn/NiFe/Ta多层膜微观结构和磁性能的变化,分析了其微观结构和磁性能之间的关系。实验结果表明,随Ta缓冲层厚度增加,FeMn层织构、晶粒尺寸、位错密度、应变和界面粗糙度都发生明显变化,并且这些变化影响了多层膜的偏置场(Hex)和矫顽力(Hc)的大小。结合实验现象和交换偏置(EB)的物理本质,讨论了微观结构对交换偏置的影响机理
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