%0 Journal Article
%T Ta缓冲层厚度对FeMn/NiFe体系交换偏置的影响
%A 杨素分
%A 陈冷
%J 功能材料
%D 2016
%R 10.3969/j.issn.1001-9731.2016.07.012
%X 用X射线衍射仪、原子力显微镜和磁强计研究了Ta缓冲层厚度变化时,Ta/FeMn/NiFe/Ta多层膜微观结构和磁性能的变化,分析了其微观结构和磁性能之间的关系。实验结果表明,随Ta缓冲层厚度增加,FeMn层织构、晶粒尺寸、位错密度、应变和界面粗糙度都发生明显变化,并且这些变化影响了多层膜的偏置场(Hex)和矫顽力(Hc)的大小。结合实验现象和交换偏置(EB)的物理本质,讨论了微观结构对交换偏置的影响机理
%K 交换偏置
%K 多层膜
%K 织构
%K 界面粗糙度
%K 晶粒尺寸
%U http://www.gncl.cn/CN/abstract/abstract14982.shtml