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ISSN: 2333-9721
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-  2018 

不同溅射功率下PEN/Ti纳米复合薄膜的制备及性能研究

DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2018.10.005

Keywords: 纳米复合薄膜,溅射功率,表面粗糙度,沉积速率,弹性模量

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Abstract:

采用直流磁控溅射法,在溅射气压为7.0×10-1 Pa和不同溅射功率(72~144 W)下,制备出PEN/Ti纳米复合薄膜。研究了不同溅射功率对Ti膜微观组织、表面粗糙度、硬度及生长方式的影响规律。结果表明,直流磁控溅射法在PEN柔性衬底上沉积的钛膜是一种纳米多晶薄膜;随着溅射功率的增加,钛膜沉积速率及钛膜弹性模量皆升高,而钛膜表面粗糙度与钛膜晶粒尺寸均减小;溅射功率的增加将抑制钛膜柱状生长方式。在溅射气压为7.0×10-1 Pa,溅射功率为144 W时的工艺参数下,获得性能最佳的复合薄膜

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