%0 Journal Article
%T 不同溅射功率下PEN/Ti纳米复合薄膜的制备及性能研究
%A 丁雨田
%A 柴利强
%A 许佳玉
%A 陈建军
%A 高钰璧
%J 功能材料
%D 2018
%R 10.3969/j.issn.1001-9731.2018.10.005
%X 采用直流磁控溅射法,在溅射气压为7.0×10-1 Pa和不同溅射功率(72～144 W)下,制备出PEN/Ti纳米复合薄膜。研究了不同溅射功率对Ti膜微观组织、表面粗糙度、硬度及生长方式的影响规律。结果表明,直流磁控溅射法在PEN柔性衬底上沉积的钛膜是一种纳米多晶薄膜;随着溅射功率的增加,钛膜沉积速率及钛膜弹性模量皆升高,而钛膜表面粗糙度与钛膜晶粒尺寸均减小;溅射功率的增加将抑制钛膜柱状生长方式。在溅射气压为7.0×10-1 Pa,溅射功率为144 W时的工艺参数下,获得性能最佳的复合薄膜
%K 纳米复合薄膜
%K 溅射功率
%K 表面粗糙度
%K 沉积速率
%K 弹性模量
%U http://www.gncl.cn/CN/abstract/abstract17339.shtml