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ISSN: 2333-9721
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-  2000 

氟化物激光晶体Nd3+:LiYF4的坩埚下降法生长

Keywords: 激光晶体,氟化钇锂,氟化处理,晶体生长,坩埚下降法

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摘要: 本文报道了氟化物激光晶体Nd3+: LiYF4的坩埚下降法生长工艺.采用经氟化处理的无水氟化物原料,按照 LiF: YF3= 51.5: 48.5的比例配料,控制炉体温度于 920~960℃,晶体生长速度为 0.4~0.8 mm/h,通过密闭条件下的坩埚下降法生长出尺寸为φ 425mm×80mm的完整单晶.

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