%0 Journal Article
%T 氟化物激光晶体Nd3+:LiYF4的坩埚下降法生长
%A 陈红兵
%A 范世Ji
%A 徐家跃
%A 费一汀
%A 孙仁英
%J 无机材料学报
%D 2000
%X 摘要： 本文报道了氟化物激光晶体Ｎｄ３＋： ＬｉＹＦ４的坩埚下降法生长工艺．采用经氟化处理的无水氟化物原料，按照 ＬｉＦ： ＹＦ３＝ ５１．５： ４８．５的比例配料，控制炉体温度于 ９２０～９６０℃，晶体生长速度为 ０．４～０．８ ｍｍ／ｈ，通过密闭条件下的坩埚下降法生长出尺寸为φ ４２５ｍｍ×８０ｍｍ的完整单晶．
%K 激光晶体
%K 氟化钇锂
%K 氟化处理
%K 晶体生长
%K 坩埚下降法
%U http://www.jim.org.cn/CN/abstract/abstract11176.shtml