掺杂对 ZnO 半导体薄膜光学性能的影响

以掺杂氧化锌(ZnO) 陶瓷靶为溅射源材料，采用射频磁控溅射技术在石英玻璃衬底上制备了掺杂 ZnO 系列半导体薄膜样品． 利用紫外-可见分光光度计测量了薄膜的透射光谱， 通过 Swanepoel 法确定了薄膜的折射率和消光系数，利用外推法获得了薄膜的光学带隙，研究了不同掺杂对 ZnO 薄膜光学性能的影响．结果表明，钛掺杂和 镓镁合掺后，ZnO 薄膜的透过率和光学带隙增加而折射率减小; 所有薄膜的折射率均随波长增加而单调减小，呈现出正常的色散特性