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- 2015
四硅氧烷Gemini咪唑表面活性剂的合成及表面性能Keywords: 四硅氧烷Gemini咪唑表面活性剂, 临界胶束浓度, 电导率, 表面张力, 热力学参数 Abstract: 摘要 以三甲基氯硅烷、γ-氯丙基三氯硅烷、1,4-二氯丁烷和咪唑等为原料合成了一种新型的四硅氧烷Gemini咪唑表面活性剂([Si4-4-Si4im]Cl2), 通过质谱(MS)和核磁共振氢谱(1H NMR)证明所得产物为目标产物. 通过Wilhelmy板法测得其在25 ℃下的临界胶束浓度(cmc)为0.54 mmol/L, 水溶液的表面张力(γcmc)降至18.6 mN/m. 通过电导率法研究了其胶束形成热力学参数(和), 表明在15~35 ℃下其胶束化过程是自发进行的, 且为熵驱动过程
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