%0 Journal Article
%T 四硅氧烷Gemini咪唑表面活性剂的合成及表面性能
%A 梁维平
%A 赵晓辉
%A 安东
%A 徐乾
%A 叶志文
%J 高等学校化学学报
%D 2015
%X 摘要 以三甲基氯硅烷、γ-氯丙基三氯硅烷、1,4-二氯丁烷和咪唑等为原料合成了一种新型的四硅氧烷Gemini咪唑表面活性剂([Si4-4-Si4im]Cl2), 通过质谱(MS)和核磁共振氢谱(1H NMR)证明所得产物为目标产物. 通过Wilhelmy板法测得其在25 ℃下的临界胶束浓度(cmc)为0.54 mmol/L, 水溶液的表面张力(γcmc)降至18.6 mN/m. 通过电导率法研究了其胶束形成热力学参数(和), 表明在15~35 ℃下其胶束化过程是自发进行的, 且为熵驱动过程
%K 四硅氧烷Gemini咪唑表面活性剂
%K 临界胶束浓度
%K 电导率
%K 表面张力
%K 热力学参数
%U http://www.cjcu.jlu.edu.cn/CN/abstract/abstract25814.shtml