离子束增强沉积si_3n_4/si多层红外干涉滤波薄膜
Keywords: 红外干涉滤波膜,离子束增强沉积
Abstract:
？利用离子束增强沉积工艺,在硅基片上制备si3n4/si多层红外干涉滤波薄膜结果表明,n2+n的辅助轰击对于合成接近化学配比的si3n4薄膜起了关键作用薄膜的折射率可达1.74～1.84实验测得的多层滤波薄膜的红外反射谱与理论值相当接近
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