%0 Journal Article
%T 离子束增强沉积si_3n_4/si多层红外干涉滤波薄膜
%A 江炳尧
%A 张福民
%A 孙义林
%A 陈酉善
%A 柳襄怀
%J 材料研究学报
%D 1997
%X ？利用离子束增强沉积工艺,在硅基片上制备si3n4/si多层红外干涉滤波薄膜结果表明,n2+n的辅助轰击对于合成接近化学配比的si3n4薄膜起了关键作用薄膜的折射率可达1.74～1.84实验测得的多层滤波薄膜的红外反射谱与理论值相当接近
%K 红外干涉滤波膜
%K 离子束增强沉积
%U http://www.cjmr.org/CN/abstract/abstract15775.shtml