含活性基团硅氮烷先驱体的裂解

？用tg-gc,ir,元素分析,xrd研究mesihcl2与mesivi(vi:-ch=ch2)cl2共氨解产物的裂解过程.400～800℃在n2中完成裂解,硅氢化反应形成桥键[si-ch2-ch2-si,si-ch(ch3)-si]和自由基历程导致亚甲基插入形成si-ch2-si是裂解产物中富余碳的来源.在nh3中,nh3分子进攻si-ch3形成低分子产物逸出而脱碳,裂解发生在400～600℃,得到较纯的si3n4.1400℃以前裂解产物(n2,nh3)呈无定形态