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OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
费用：99美元
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用微波等离子体cvd制备c3n4薄膜
Keywords: 微波等离子体化学气相沉积,β-c3n4,薄膜
Abstract:
？采用微波等离子体化学气相沉积法(mpcvd),使用高纯n2(99.999%)和ch4(99.9%)作反应气体,在多晶pt(99.99%)基片上沉积c3n4薄膜.x射线能谱(edx)分析结果表明n/c原子比为1.0-1.4,接近c3n4的化学比;x射线衍射谱(xrd)说明薄膜主要由β--和α--c3n4组成;x射线光电子谱(xps)、傅立叶变换红外谱(ft--ir)和喇曼(raman)谱说明在c3n4薄膜中存在c--n键.
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