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OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
费用：99美元
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用于微机电系统的类金刚石膜制备及表征
Keywords: 无机非金属材料,类金刚石膜,等离子体源离子
Abstract:
？采用等离子体源离子注入和电子回旋共振--微波等离子体辅助化学气相沉积技术相结合的方法在si衬底上制备出了性能良好的类金刚石膜.通过共聚焦raman光谱验证了薄膜的类金刚石特性,用原子力显微镜、微摩擦计和扫描电镜等对薄膜的表面形貌、摩擦系数和耐磨损性能进行了表征和测量.结果表明,用离子注入法制备过渡层大大提高了dlc膜与衬底的结合强度,薄膜的表面比较光滑,粗糙度大约为0.198nm,具有较低的摩擦系数(0.1$\sim$0.15),具有较好的耐磨损性能.
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