%0 Journal Article
%T 用于微机电系统的类金刚石膜制备及表征
%A 李新
%A 唐祯安
%A 徐军
%J 材料研究学报
%D 2004
%X ？采用等离子体源离子注入和电子回旋共振--微波等离子体辅助化学气相沉积技术相结合的方法在si衬底上制备出了性能良好的类金刚石膜.通过共聚焦raman光谱验证了薄膜的类金刚石特性,用原子力显微镜、微摩擦计和扫描电镜等对薄膜的表面形貌、摩擦系数和耐磨损性能进行了表征和测量.结果表明,用离子注入法制备过渡层大大提高了dlc膜与衬底的结合强度,薄膜的表面比较光滑,粗糙度大约为0.198nm,具有较低的摩擦系数(0.1$\sim$0.15),具有较好的耐磨损性能.
%K 无机非金属材料
%K 类金刚石膜
%K 等离子体源离子
%U http://www.cjmr.org/CN/abstract/abstract1151.shtml