li0.33la0.56tio3薄膜电解质的结构和光电性能

？采用射频磁控溅射法，自制li0.33la0.56tio3陶瓷靶材，在不同基片温度下沉积了li0.33la0.56tio3薄膜。利用x射线衍射仪、原子力学显微镜、电化学工作站、紫外？可见分光光度计等现代测试手段，研究了基片温度对薄膜的结构、形貌、光学和电学性能的影响。结果表明：所制备的li0.33la0.56tio3薄膜为非晶态结构，在可见光波段具有较高的透过率；随着基片温度从50℃升高到300℃，薄膜表面更为平整致密，离子电导率逐渐增加。