%0 Journal Article
%T li0.33la0.56tio3薄膜电解质的结构和光电性能
%A 熊玉立
%A 陈红萍
%A 楼贤春
%A 赵修建
%J 武汉理工大学学报
%D 2011
%X ？采用射频磁控溅射法，自制li0.33la0.56tio3陶瓷靶材，在不同基片温度下沉积了li0.33la0.56tio3薄膜。利用x射线衍射仪、原子力学显微镜、电化学工作站、紫外？可见分光光度计等现代测试手段，研究了基片温度对薄膜的结构、形貌、光学和电学性能的影响。结果表明：所制备的li0.33la0.56tio3薄膜为非晶态结构，在可见光波段具有较高的透过率；随着基片温度从50℃升高到300℃，薄膜表面更为平整致密，离子电导率逐渐增加。
%K 磁控溅射
%K li0.33la0.56tio3薄膜
%K 基片温度
%U http://www.whlgdxxb.com.cn//qikan/Cpaper/zhaiyao.asp?bsid=29782