电子回旋共振反应溅射制备zno膜的特性

？zno薄膜可以具有压电性和透光导电性两种不同性质，取决制备中的不同沉积条件。本文介绍采用微波电子回旋共振（ecr）等离子体反应溅射制备zno薄膜的实验装置和方法。在氢气流量是4cm3／s，氧气流量是15cm3／s，基片温度250℃时沉积出高度c轴择优取向的zno膜，其取向分散度为2．5°，偏离度为0．5°。在氢气流量是6cm3／s，氧气流量是0．5cm3／s，基片温度150°时沉积的zno膜其可见光透率85％，电阻车3．27×10－3ω？cm。