微波等离子cvd低温沉积金刚石膜及其表征

？采用ch4/ar/h2气源系统,以si(111)为基片在微波等离子cvd系统中通过工艺的优化在350℃沉积了金刚石膜。研究了不同的基片预处理工艺、微波功率对金刚石结构的影响,用xrd、sem等测试方法进行了表征,xrd测试结果表明金刚石膜中仍存在缺陷和杂质,sem测试结果表明金刚石膜由200nm的球状颗粒组成,存在二次成核现象。