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, PP. 261-264
Keywords: 电沉积,金属多层膜,纳米
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分别采用单槽法和双槽法电沉积制备cu/ni多层膜.研究了两种电沉积方法制备多层膜的工艺条件,并利用俄歇电子能谱和扫描电子显微镜(sem)确定镀层结构.通过对比,分析了单槽法和双槽法制备多层膜的优缺点.
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