%0 Journal Article
%T 电沉积纳米金属多层膜研究
%A 姚素薇
%A 桂枫
%A 张卫国
%A 冯钊永
%A 窦升鹏
%J 天津大学学报(自然科学与工程技术版)
%P 261-264
%D 2001
%X 分别采用单槽法和双槽法电沉积制备cu/ni多层膜.研究了两种电沉积方法制备多层膜的工艺条件,并利用俄歇电子能谱和扫描电子显微镜(sem)确定镀层结构.通过对比,分析了单槽法和双槽法制备多层膜的优缺点.
%K 电沉积
%K 金属多层膜
%K 纳米
%U http://xbzrb.tjujournals.com/oa/DArticle.aspx?type=view&id=200102032