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ISSN: 2333-9721
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钛表面含硅羟基磷灰石涂层的电化学合成和表征

, PP. 1027-1032

Keywords: 羟基磷灰石,硅掺杂,电化学沉积,涂层

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Abstract:

在含有ca2+,po43-以及sio32-的电解液中,通过电化学恒电位方法,在工作电压为3v温度为85℃的条件下沉积1h,于钛表面上制得含硅羟基磷灰石涂层。通过电感耦合等离子体原子发射光谱(icp)、扫描电镜(sem)、x-射线衍射(xrd)、探针式轮廓仪(sp)、红外光谱(ftir)对涂层进行分析。结果表明:电化学恒电位方法可制得si饱和含量为0.55wt%左右的si-ha涂层,si以sio44-形式取代po43-进入ha晶格,造成羟基磷灰石中oh-减小以维持电荷平衡。另外,电解液中si元素的存在抑制涂层中ha晶体的生长,使涂层变薄,且当电解液中nsi/(nsi+np)达到20%时si-ha晶体形貌由单独的棒状转变为根部相连的树枝状。

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