%0 Journal Article
%T 钛表面含硅羟基磷灰石涂层的电化学合成和表征
%A 李登虎？
%A 林 军？
%A 林东洋？
%A 王小祥？
%J 无机化学学报
%P 1027-1032
%D 2011
%X 在含有ca2+，po43-以及sio32-的电解液中，通过电化学恒电位方法，在工作电压为3v温度为85℃的条件下沉积1h,于钛表面上制得含硅羟基磷灰石涂层。通过电感耦合等离子体原子发射光谱(icp)、扫描电镜(sem)、x-射线衍射(xrd)、探针式轮廓仪(sp)、红外光谱(ftir)对涂层进行分析。结果表明：电化学恒电位方法可制得si饱和含量为0.55wt%左右的si-ha涂层，si以sio44-形式取代po43-进入ha晶格，造成羟基磷灰石中oh-减小以维持电荷平衡。另外，电解液中si元素的存在抑制涂层中ha晶体的生长，使涂层变薄，且当电解液中nsi/(nsi+np)达到20%时si-ha晶体形貌由单独的棒状转变为根部相连的树枝状。
%K 羟基磷灰石
%K 硅掺杂
%K 电化学沉积
%K 涂层
%U http://www.wjhxxb.cn/wjhxxbcn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=20110603&flag=1