用xps和xaes分析电化学沉积的dlc膜
, PP. 569-573
Keywords: 类金刚石碳膜,电化学沉积,xps,xaes
Abstract:
采用电化学沉积方法,以甲醇溶剂作碳源,直流电压作用下在单晶硅表面沉积得到碳薄膜。通过研究石墨、金刚石和样品薄膜的xps和xaes谱图特征,证明了此方法沉积得到的是dlc薄膜;利用曲线拟合技术在c1s电子能谱图中拟合出sp3峰与sp2峰,并计算出样品薄膜中sp3碳的相对含量为55%;研究石墨、金刚石和样品薄膜的一阶微分xaes谱图,用线性插入法估算出样品薄膜中sp3碳的相对含量为60%。
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