808nm大功率半导体激光器阵列的优化设计
, PP. 0-0
Keywords: 半导体激光器线阵列,隔离沟道,腐蚀深度,电流扩散,电流分布
Abstract:
?采用激射波长为808nm的gaas/algaas梯度折射率波导分别限制单量子阱结构外延片,制备了沟道深度不同的半导体激光器阵列,并对载流子分布进行理论分析和模拟。理论和实验结果表明:引入脊形台面和隔离沟道后,激光器阵列的输出功率、电光转换效率、斜率效率和光谱特性均有显著提高。随着沟道的加深,对电流侧向扩散的限制作用增强,从而提高了阵列性能。
Full-Text