均匀软x射线多层膜制备方法研究

？介绍了基于速度调制技术的均匀软x射线多层膜制备方法，并采用该方法在直径为150mm的平面硅基板上制备出mo/si多层膜，其中心波长为13.5nm，膜厚空间非均匀性优于1％，较转盘匀速溅射方法制备的多层膜膜厚空间均匀性提高了近6倍。