%0 Journal Article
%T 均匀软x射线多层膜制备方法研究
%A 金春水
%A 林强
%A 马月英
%A 裴舒
%A 曹健林
%J 强激光与粒子束
%P 0-0
%D 2003
%X ？介绍了基于速度调制技术的均匀软x射线多层膜制备方法，并采用该方法在直径为150mm的平面硅基板上制备出mo/si多层膜，其中心波长为13.5nm，膜厚空间非均匀性优于1％，较转盘匀速溅射方法制备的多层膜膜厚空间均匀性提高了近6倍。
%K 软x射线
%K 多层膜
%K 磁控溅射
%K 均匀性
%U http://www.hplpb.com.cn/CN/abstract/abstract2148.shtml