基于时间控厚离子束溅射技术的宽带减反膜制备

？为了制备满足设计要求的宽角度、宽波段减反膜，利用离子束溅射沉积技术，在时间-功率控厚的模式下，对膜层沉积速率进行了精确修正。在实验中，利用时间-功率控厚的离子束溅射沉积技术，选择hfo2和sio2作为高低折射率组合，在超抛zf6玻璃基底上制备了宽角度、宽带减反膜，通过对实验后的透过率光谱曲线的数值反演计算，获得膜层厚度修正系数，初步得到了沉积速率随沉积时间变化的规律。利用修正后的沉积参数制备设计的膜系，在0°~30°入射角度下，600~1200nm波段的平均透过率达到99%以上。