%0 Journal Article
%T 基于时间控厚离子束溅射技术的宽带减反膜制备
%A 刘华松
%A 王占山
%A 季一勤
%A 沈正祥
%A 马彬
%A 程鑫彬
%A 焦宏飞
%A 陈德应
%A 刘丹丹
%A 宋洪君
%J 强激光与粒子束
%P 0-0
%D 2011
%X ？为了制备满足设计要求的宽角度、宽波段减反膜，利用离子束溅射沉积技术，在时间-功率控厚的模式下，对膜层沉积速率进行了精确修正。在实验中，利用时间-功率控厚的离子束溅射沉积技术，选择hfo2和sio2作为高低折射率组合，在超抛zf6玻璃基底上制备了宽角度、宽带减反膜，通过对实验后的透过率光谱曲线的数值反演计算，获得膜层厚度修正系数，初步得到了沉积速率随沉积时间变化的规律。利用修正后的沉积参数制备设计的膜系，在0°~30°入射角度下，600~1200nm波段的平均透过率达到99%以上。
%K 宽带减反膜
%K 离子束溅射
%K 时间-功率控厚
%K 膜层厚度修正
%U http://www.hplpb.com.cn/CN/abstract/abstract4979.shtml