色分离光栅镀膜减反技术研究

？根据惯性约束聚变系统技术要求，提出一种镀膜减反方案，以解决现有光栅由于元件表面反射影响衍射效率的问题。对色分离光栅镀膜减反技术进行了详细的分析，根据标量理论给出了镀膜光栅的各项技术要求，优化了光栅结构参数。模拟计算结果发现，光栅表面反射几乎完全消除，表明可以通过色分离光栅镀膜减反提高衍射效率的目的。该镀膜光栅刻槽深度的优化值为2.84μm，膜厚为等效1/4波长，即71.2nm。