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ISSN: 2333-9721
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532nmhfo2/sio2高反膜的激光预处理效应

Keywords: 电子束蒸发,532nm高反膜,激光预处理,损伤阈值,缺陷

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Abstract:

?采用单台阶能量光栅扫描以及r-on-1测试两种不同预处理方式研究了激光预处理技术对532nmhfo2/sio2高反膜的阈值提升效果。用nd:yag二倍频激光对电子束蒸发制备的532nmhfo2/sio2高反膜进行1-on-1损伤阈值测试,然后分别进行单台阶能量光栅扫描以及r-on-1测试。通过对损伤概率以及损伤形貌的分析,发现激光预处理能够去除薄膜内低阈值缺陷,达到提高损伤阈值的目的,损伤阈值分别提高38%和30%。

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