磁控溅射方法制备直径120mm高均匀性mo/si多层膜

？为满足极紫外、软x射线和x射线大口径多层膜反射镜的需求，采用基板扫掠过矩形靶材表面的镀膜方法，在直径120mm的平面基板上镀制了mo/si周期多层膜。通过调整基板扫掠过矩形靶材表面的速率修正了薄膜的沉积速率，极大地提高了薄膜厚度的均匀性。采用x射线衍射仪对反射镜不同位置多层膜周期厚度进行了测量，结果表明，在直径120mm范围内，mo/si多层膜周期厚度的均匀性达到了0.26%。同步辐射测量多层膜样品不同位置处的反射率，结果表明，在直径120mm范围内，多层膜的膜层厚度均匀，在入射角10°时13.75nm波长处平均反射率为66.82%。