%0 Journal Article
%T 磁控溅射方法制备直径120mm高均匀性mo/si多层膜
%A 潘磊
%A 王晓强
%A 张众
%A 朱京涛
%A 王占山
%A 李乙洲
%A 李宏杰
%A 王道荣
%A 赵巨岩
%A 陆伟
%J 强激光与粒子束
%P 0-0
%D 2010
%X ？为满足极紫外、软x射线和x射线大口径多层膜反射镜的需求，采用基板扫掠过矩形靶材表面的镀膜方法，在直径120mm的平面基板上镀制了mo/si周期多层膜。通过调整基板扫掠过矩形靶材表面的速率修正了薄膜的沉积速率，极大地提高了薄膜厚度的均匀性。采用x射线衍射仪对反射镜不同位置多层膜周期厚度进行了测量，结果表明，在直径120mm范围内，mo/si多层膜周期厚度的均匀性达到了0.26%。同步辐射测量多层膜样品不同位置处的反射率，结果表明，在直径120mm范围内，多层膜的膜层厚度均匀，在入射角10°时13.75nm波长处平均反射率为66.82%。
%K mo/si多层膜
%K 磁控溅射
%K 均匀性
%K 反射率
%K 同步辐射
%U http://www.hplpb.com.cn/CN/abstract/abstract4479.shtml