电解抛光法制备金属钨箔膜

？研究了在硫酸甲醇体系中进行电解抛光制备状态方程（eos）靶用钨薄膜。分析了钨的阳极极化曲线，对薄膜的表面形貌、晶粒取向、密度和厚度一致性进行了测试和分析，并制备出均方根粗糙度小于50nm、厚度一致性好于99%、能够保持原材料密度的钨箔膜，满足激光驱动材料高温高压状态方程研究的标准靶材料的需求，证明电解抛光是制备低表面粗糙度、块材密度的eos所用金属箔材的有效手段。