%0 Journal Article
%T 电解抛光法制备金属钨箔膜
%A 宋萍
%A 邢丕峰
%A 谌家军
%A 李朝阳
%A 谢军
%A 郑凤成
%J 强激光与粒子束
%P 0-0
%D 2010
%X ？研究了在硫酸甲醇体系中进行电解抛光制备状态方程（eos）靶用钨薄膜。分析了钨的阳极极化曲线，对薄膜的表面形貌、晶粒取向、密度和厚度一致性进行了测试和分析，并制备出均方根粗糙度小于50nm、厚度一致性好于99%、能够保持原材料密度的钨箔膜，满足激光驱动材料高温高压状态方程研究的标准靶材料的需求，证明电解抛光是制备低表面粗糙度、块材密度的eos所用金属箔材的有效手段。
%K 电解抛光
%K 钨箔膜
%K 粗糙度
%K 厚度一致性
%U http://www.hplpb.com.cn/CN/abstract/abstract4302.shtml