衬底温度对hfo₂薄膜结构和光学性能的影响

？采用直流磁控反应溅射法，分别在室温，200，300，400和500℃下制备了hfo2薄膜。利用x射线衍射（xrd）、椭圆偏振光谱（se）和紫外可见光谱（uv-vis）研究了衬底温度对hfo2薄膜的晶体结构和光学性能的影响。xrd研究结果显示：不同衬底温度下制备的hfo2薄膜均为单斜多晶结构；随衬底温度的升高，（-111）面择优生长更加明显，薄膜中晶粒尺寸增大。se和uv-vis研究结果表明：随衬底温度升高，薄膜折射率增加，光学带隙变小；制备的hfo2薄膜在250～850nm范围内有良好的透过性能，透过率在80%以上。