%0 Journal Article
%T 衬底温度对hfo<sub>2</sub>薄膜结构和光学性能的影响
%A 赵海廷
%A 马紫微
%A 李健
%A 刘利新
%A 张洪亮
%A 谢毅柱
%A 苏玉荣
%A 谢二庆
%J 强激光与粒子束
%P 0-0
%D 2010
%X ？采用直流磁控反应溅射法，分别在室温，200，300，400和500℃下制备了hfo2薄膜。利用x射线衍射（xrd）、椭圆偏振光谱（se）和紫外可见光谱（uv-vis）研究了衬底温度对hfo2薄膜的晶体结构和光学性能的影响。xrd研究结果显示：不同衬底温度下制备的hfo2薄膜均为单斜多晶结构；随衬底温度的升高，（-111）面择优生长更加明显，薄膜中晶粒尺寸增大。se和uv-vis研究结果表明：随衬底温度升高，薄膜折射率增加，光学带隙变小；制备的hfo2薄膜在250～850nm范围内有良好的透过性能，透过率在80%以上。
%K hfo2薄膜
%K 衬底温度
%K 晶体结构
%K 直流磁控反应溅射
%K 折射率
%K 光学带隙
%U http://www.hplpb.com.cn/CN/abstract/abstract4348.shtml