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ISSN: 2333-9721
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多光束激光干涉光刻图样

, PP. 1-2

Keywords: 微纳结构,纳米制造,激光干涉光刻,激光干涉图样

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Abstract:

?利用电磁理论,研究了多光束激光干涉图样的产生原理,结合计算机数值模拟和相关实验结果,分析了干涉图样的影响因素。研究结果表明:多光束激光干涉图样可以看成是多组余弦分布的平行线条纹的叠加;相干光束的偏振方向、入射方向、光束间相λ差是干涉图样的重要影响因素,改变这些因素,余弦分布的平行线条纹的振幅、λ置、周期和方向发生变化,图样也随之变化。

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