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ISSN: 2333-9721
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后退火对inxga1xas单层量子点光学性质的影响

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Keywords: 量子点,后退火工艺,光致荧光,注入式半导体激光器

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Abstract:

?研究了以gaas和al0.15ga0.85as为基体,当铟的摩尔分数(x)不同时,后退火对inxga1-xas单层量子点光致荧光(pl)谱特性的影响。后退火将导致铟含量不同的样品(x=0.23,0.37,0.50,1.0)的pl谱线宽度变窄和蓝移。对于gaas基体,在700℃退火90分钟所造成的pl谱蓝移与退火30分钟相似;(仅当x=0.23时,退火90分钟所造成的pl谱蓝移小于30分钟)。对于al0.15ga0.85as基体,在700℃退火30分钟和90分钟,其pl谱蓝移是不同的。

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