chn薄膜的制备方法与工艺研究

？采用空心阴极等离子化学气相沉积方法，以nh3/h2的混合气体及ch4气体为原料反应气体，成功地制备了非晶的chn薄膜，研究了chn薄膜的沉积速率与直流电压及反应气体流量的关系。同时用x射线光电子能谱(xps)确定了不同条件下薄膜中n原子的百分比，用原子力显微镜(afm)对薄膜的表面粗糙度及表面形貌进行了测量和表征。结果表明：薄膜中n原子的百分比最大为12%，薄膜的表面结构光滑、致密，表面粗糙度小于1nm。