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ISSN: 2333-9721
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物理  2002 

尺寸缩小带来的巨大挑战

, PP. 0-0

Keywords: 超大规模集成电路,接触电阻,自对准硅化物工艺,大直径硅

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Abstract:

?随着cmos技术缩至100nm或更小,在cmos器件结构、接触电阻以及大直径硅晶片等方面均遇到一些材料物理的巨大挑战.

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