%0 Journal Article
%T 尺寸缩小带来的巨大挑战
%A 吴自勤
%A 刘洪图
%J 物理
%P 0-0
%D 2002
%X ？随着cmos技术缩至100nm或更小，在cmos器件结构、接触电阻以及大直径硅晶片等方面均遇到一些材料物理的巨大挑战.
%K 超大规模集成电路
%K 接触电阻
%K 自对准硅化物工艺
%K 大直径硅
%U http://www.wuli.ac.cn/CN/abstract/abstract30039.shtml