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物理 1982
掺杂的pbtio_3铁电陶瓷中的正电子湮没, PP. 0-0 Abstract: ?正电子湮没技林(pat)在材料缺陷的研究中有着广泛的应用[1].但它用于铁电陶瓷组分缺陷的研究则刚刚开始.tsuda[2,3]等研究了掺gd的batio3的正电子寿命谱,证明正电子对掺gd所造成的ba空位是敏感的.本文报道la,mn复合置换的pbtio3铁电陶瓷的正电子寿命谱测量结果.样品配料分子式为(ph-(1-1.5x)其中表示pb空位,x值从1%到10%.样品按陶瓷工艺制成20×20×1....
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