全部 标题 作者
关键词 摘要

OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
费用:99美元

查看量下载量

相关文章

更多...
物理  1981 

区熔[115]硅单晶的外形特征

, PP. 0-0

Full-Text   Cite this paper   Add to My Lib

Abstract:

?在半导体硅材料的研究和应用中,广泛地使用沿[111]和[100]晶向生长的硅单晶,而对其他晶向生长的硅单晶,则研究和应用较少.对沿[115]生长的硅单晶国外虽有报道[1,2],但应用还不普遍,国内还未研究报告.本文总结了我们多年来对区熔[115]硅单晶的研究工作.在文献[1]中仅就[115]硅单晶的生长机理同[111]硅单晶进行了比较,同时研究了固-液界面的不同特点,指出[115]硅单晶生长?...

Full-Text

Contact Us

service@oalib.com

QQ:3279437679

WhatsApp +8615387084133