%0 Journal Article
%T 区熔[115]硅单晶的外形特征
%A 徐文耀
%J 物理
%P 0-0
%D 1981
%X ？在半导体硅材料的研究和应用中，广泛地使用沿［１１１］和［１００］晶向生长的硅单晶，而对其他晶向生长的硅单晶，则研究和应用较少．对沿［１１５］生长的硅单晶国外虽有报道［１，２］，但应用还不普遍，国内还未研究报告．本文总结了我们多年来对区熔［１１５］硅单晶的研究工作．在文献［１］中仅就［１１５］硅单晶的生长机理同［１１１］硅单晶进行了比较，同时研究了固－液界面的不同特点，指出［１１５］硅单晶生长?...
%U http://www.wuli.ac.cn/CN/abstract/abstract27139.shtml